领先世界的光掩模防尘用薄膜
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MITSUI PELLICLE™
主要用途
光掩模防尘用薄膜(LSI制造工程)
用途分类
特性分类
- 基本信息
- 详细特点
- 具体用途
概要
MITSUI PELLICLE™选择光刻时各种曝光波长具有耐光性的薄膜材料,采用特殊膜厚设计以获得高透光率的光掩模用防尘薄膜。
可保证光掩模清洁,有助于提高半导体生产效率。MITSUI PELLICLE™基于经验及技术服务,支持新一代光刻技术。
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半导体・光学材料事业部
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