领先世界的光掩模防尘用薄膜
中文
English
MITSUI PELLICLE™
主要用途
光掩模防尘用薄膜（LSI制造工程）
用途分类
特性分类
- 基本信息
- 详细特点
- 具体用途
概要
MITSUI PELLICLE™选择光刻时各种曝光波长具有耐光性的薄膜材料，采用特殊膜厚设计以获得高透光率的光掩模用防尘薄膜。
可保证光掩模清洁，有助于提高半导体生产效率。MITSUI PELLICLE™基于经验及技术服务，支持新一代光刻技术。
製品群
6"ig通用薄膜
KrF受激准分子用薄膜
ArF受激准分子用薄膜
小型液晶薄膜
支持主要厂商生产步进光刻机
Nikon Canon ASML
环保
产品包装盒可循环回收利用
完善的技术服务体系
应用方法介绍
质量问题原因分析及对策
各种分析
薄膜材料的演变
无尘结构
使用特殊粘接材料覆盖铝合金框架表面，防止框架产生灰尘，并保持内壁附着的异物。
不使用可产生灰尘的双面粘接薄膜，将特殊粘接剂直接涂在框架上。该涂布型光掩模粘接剂易从光掩模上剥离，可轻松清洗光掩模。
结构图
产品信息咨询
半导体・光学材料事业部
电话
+86-21-5888-6336
传真
+86-21-5888-6337