MITSUI PELLICLE™
- 基本信息
- 详细特点
- 具体用途
概要
MITSUI PELLICLE™选择光刻时各种曝光波长具有耐光性的薄膜材料，采用特殊膜厚设计以获得高透光率的光掩模用防尘薄膜。
可保证光掩模清洁，有助于提高半导体生产效率。MITSUI PELLICLE™基于经验及技术服务，支持新一代光刻技术。
特性
光学特性
透光率99%以上。通过对原料进行前处理并组合应用旋转涂布技术，确保透光率的均匀性。
清洁性
采用精选材料，避免光照劣化及升华成分导致的异物。在1级无尘室内采用清洁机械手系统进行生产，保证产品的稳定高质量。
膜寿命
通过开发支持不同曝光光波的新材料，使用寿命将更长。
特性
製品群
6"ig通用薄膜
KrF受激准分子用薄膜
ArF受激准分子用薄膜
小型液晶薄膜
支持主要厂商生产步进光刻机
Nikon Canon ASML
环保
产品包装盒可循环回收利用
完善的技术服务体系
应用方法介绍
质量问题原因分析及对策
各种分析
用途
薄膜材料的演变
无尘结构
使用特殊粘接材料覆盖铝合金框架表面，防止框架产生灰尘，并保持内壁附着的异物。
不使用可产生灰尘的双面粘接薄膜，将特殊粘接剂直接涂在框架上。该涂布型光掩模粘接剂易从光掩模上剥离，可轻松清洗光掩模。
结构图
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